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B级IQI灵敏度的X-射线数字曝光曲线研究

作者: 孔凡琴 张光先 来源:光子学报 日期: 2024-03-19 人气:24
B级IQI灵敏度的X-射线数字曝光曲线研究
基于非晶硅面阵探测器,以像质计(Image Quality Indicator,IQI)灵敏度达到成像质量最高级B级,研究了IQI灵敏度各制约参数并进行优化.基于优化理论和试验数据,以被检测物体的等效钢厚为自变量,将各制约参数的最优值集为一曲线,为数字射线成像(Digital Radiography,DR)检测提供有效的工艺参数.
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