光栅刻划机被誉为“精密机械之王”，采用高精度的衍射光栅刻划机刻划依然是制作高质量母光栅最重要的手段，因此，对高精度的光电式光栅刻划机进行研究具有重要的现实意义。文中主要阐述了两类光电式刻划机的控制原理，并对其特点进行了比较。

随着激光核聚变技术，天文学和同步辐射技术等高科技的迅速发展，大面积、高分辨率光栅在这些领域得到了越来越广泛的应用。为此长春光机所光栅研究室研制出了一台大型光栅刻划机。本文讨论了刻划机工件台及光栅毛坯减重系统的设计和安装，该系统不仅可以减少工件台对导轨的压力，还可减轻重量较大的光栅毛坯对工件台的压力，确保了光栅机的刻划精度。

针对大面积光栅刻划机实验室存在的复杂振动因素,可能对光栅刻划机运行的刻划精度造成不良影响,为光栅刻划机基座设计一个隔振系统,隔振系统采用被动隔振与主动隔振相结合的隔振方式.为了模拟隔振器隔振性能,建立隔振系统的动力学模型和动力学方程,在Matlab/ simulink仿真软件中搭建仿真框图,并施加模拟的振动干扰信号进行光栅刻划机基座隔振仿真,根据仿真结果对比分析被动隔振和主被动复合隔振方法的隔振效果.仿真结果表明,采用空气弹簧的被动隔振系统对频率较髙的振动干扰具有良好的隔离作用,然而对低频振动干扰几乎没有隔离效果,而采用PID主动控制隔振后的主被动复合隔振系统对低频振动干扰具有良好的隔离效果,大大提高了隔振系统的低频隔振性能.